擴散爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

產品描述：

◆軟著陸載片裝置

 軟著陸送料裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴散均勻性。同時槳的清洗周期大幅度延長。

◆溫度控制

 新型爐體設計，提高了溫度穩定性；配合溫控儀的使用，保證工藝過程中溫度的快速穩定。

◆進口元器件組合

 關鍵件采用進口管件，且為半導體級別；的元器件組合，從而保證成膜質量。

主要技術參數：

◆工藝管數量：1-4管

◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英寸）

◆結構型式：臥式熱壁型

◆工作溫度范圍：400～1280℃

◆恒溫區長度及精度±0.5℃/1080mm

◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆氣體流量設定精度:±1％F.S

◆氣路系統氣密性： 1×10-7pa.m3/s

◆超凈工作臺：凈化等級：100級（萬級廠房）噪音：≤62dB（A）震動：≤3μm

◆控制方式： 工業微機控制

◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制