北京眾誠新材科技專業從事高純金屬材料生產加工，采用區域熔煉法，真空熔煉法，熱等靜壓燒結，電解精煉法提純等工藝，高純金屬純度達到99.9%-99.999%，產品品質高，使用效果穩定。

高純單質金屬濺射靶材（3N-5N）：鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質金屬濺射靶材。 
高純陶瓷化合物濺射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。 
備注：眾誠新材生產的陶瓷靶材采用先進的陶瓷生產工藝；惰性氣體保護熱等靜壓燒結技術，相對密度大于95-99％，可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

多元合金靶靶材（3N-4N）：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦W-Ti，鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。 
備注：眾誠新材生產的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9％），純度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。

高純單質熔煉鍍膜材料（純度3N-5N，顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等，絲材φ1.0mm、φ0.5mm等）：金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質金屬顆粒。

陶瓷化合物蒸發顆粒（純度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鋇、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發顆粒。